专业从事于:其它 公司新开发的磁控、蒸发多用镀膜机,配用改进型高真空抽气系统及全自动控制系统,抽速快、效率高、操作简单、工作可靠;具有可镀膜系广、膜层均匀、附着力好、基板温度底等特点;是镀制金属、合金及化合物膜的理想设备;适合镀制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已广泛应用在光学、电子、通讯、航空、医疗器械等领域。 公司新改进的连续镀膜设备,真空稳定、工艺稳定、生产效率高,是镀制ito膜、low-e膜、不导电电镀膜、emi屏蔽膜等功能性膜层的理想设备。 公司新改进的多功能离子镀膜机,多弧离子镀与磁控溅射镀相结合,运用新工艺和新材料,可在金属、陶瓷等表面镀制纳米级超硬膜及多层复合膜。