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公司新开发的磁控、蒸发多用镀膜机，配用改进型高真空抽气系统及全自动控制系统，抽速快、效率高、操作简单、工作可靠；具有可镀膜系广、膜层均匀、附着力好、基板温度底等特点；是镀制金属、合金及化合物膜的理想设备；适合镀制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已广泛应用在光学、电子、通讯、航空、医疗器械等领域。
公司新改进的连续镀膜设备，真空稳定、工艺稳定、生产效率高，是镀制ito膜、low-e膜、不导电电镀膜、emi屏蔽膜等功能性膜层的理想设备。
公司新改进的多功能离子镀膜机，多弧离子镀与磁控溅射镀相结合，运用新工艺和新材料，可在金属、陶瓷等表面镀制纳米级超硬膜及多层复合膜。